Material: Siliziumkarbid

Siliziumkarbid wird seit ca. 115 Jahren in über 100 verschiedenen Methoden hergestellt.

Heute wird SiC für die Halbleiterindustrie, als Blitzschutz, in Schaltelementen, blauen LEDs, Schottky Dioden, MOSFETs, Hochtemperaturthyristoren, UV Detektoren, Satelliten der Raumfahrt und großen Reflektoren, als Schleifmittel, in Scheibenbremsen, Kupplungslamellen, Dieselrußfiltern, Pyrometriefäden, Schneidwerkzeugen, in der Ummantelung von Kernbrennstoffelementen, als Bewehrungsschutz, in der Schmuckherstellung, für Heizelemente, Katalysatorabstützung und der Stahlherstellung verwendet.

Jedoch ist keins der herkömmlichen Produktionsverfahren von SiC für hochdynamische und ultrasteife Anwendungen geeignet, um Homogenität und Verarbeitbarkeit jedes Teils für optische Oberflächen und Steifigkeiten zu in der Laserindustrie üblichen Preisen zu sichern.

Deshalb hat die optoSiC GmbH das spezielle Material optoSiC+ entwickelt und gemeinsam mit Technologiepartnern die Eigenschaften des Materials ausgefeilt.

Link zu den Materialeigenschaften (PDF)